设为主页 加入收藏 繁體中文
<>

Futurrex简介

Futurrex简介

   
Futurrex简介



Futurrex 
提供先进化学技术的多样化解决方案

 

成立于1985年,总部设在美国新泽西州,富兰克林市,高速成长并超过20年连续盈利的跨国公司
公司业务覆盖范围包括北美,亚太以及欧洲
基于多样化的技术
 
应用领域:微电子、光电子、LED、太阳能光伏、微机电系统、生物芯片、微流体、平面印刷
解决方案:高性能的光刻胶、掺杂涂层、平坦化涂层、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻挡层(Barrior Layere)、湿法制程
 
客户:从财富100强到以风险投资为背景的设备研发及制造公司
 
使命
目标
提供特殊化学品和全新工艺来增加客户的产能
策略
提供独特的产品来优化生产制程,以提高设备能效
领先的技术提升生产过程中的整体性价比
工艺步骤的减少降低了成本和产生瑕疵的可能
增加客户的产能和生产的效率
工艺减化
非同寻常的显微构造、金属及介电层上的图形转换、光刻、平坦化、掺杂、蚀刻、邦定
在生产过程中,不含有害溶剂
支持所有客户的需要,与客户共创成功
 
发展
Futurrex在开发最高端产品方面已经有很长的历史
我们的客户一直在同我们共同合作,创造出了很多强势的专利产品。
在晶体管(transistor) ,封装,微机电。显示器,OLEDs,波导(waveguides) ,VCSELS,
成像,电镀,纳米碳管,微流体,芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。
目前Futurrex有数百个专利技术在美国专利商标局备案。
 
Futurrex 产品目录
正性光刻胶
增强粘附性正性光刻胶
负性光刻胶
增强粘附性负性光刻胶
先进工艺负性光刻胶
用于lift-off工艺的负性光刻胶
非光刻涂层
平坦化,保护、粘接涂层
氧化硅旋涂(spin-on glas)
掺杂层旋涂
辅助化学品
边胶清洗液
显影液
去胶液
Futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(HMDS)